一、LCVD石墨烯制备

        稳定可靠的实验装置是LCVD法制备高质量石墨烯的重要基础，它包括工艺主体和工艺配套两大部分。其中，工艺主体由激光聚焦单元、真空可视反应腔、聚焦光斑测量单元等几部分组成，工艺配套则包括反应源气体及控制单元、三维移动平台单元、型材支架，实验装置如图所示：

二、LCVD石墨烯制备工艺中基底温度场仿真

        影响基底静态温度场分布的主要因素包括：基底材料属性、激光功率、基底面积尺寸、聚焦光斑直径、反应气体流量等，采用ANSYS有限元分析软件对基底动态温度场进行仿真分析。采用波长为532nm的连续型固体激光器作为石墨烯生长热源，光斑区域内的能量呈高斯分布，即能量的分布从中心向边缘递减。因此，可用高斯热源模型来模拟激光的聚焦加热，Eagar和Tsai将聚焦光斑区域内的热流密度分布近似用高斯数学模型描述。